2025-910
在算力需求爆炸式增長的后摩爾時代,數(shù)據(jù)的高速傳輸成為制約系統(tǒng)性能的關(guān)鍵瓶頸。銅互連的傳統(tǒng)電學(xué)互聯(lián)技術(shù)正面臨物理極限,而光子集成技術(shù)以其高帶寬、低延遲、抗干擾的絕對優(yōu)勢,成為破解這一難題的核心路徑。然而,如何將微米級的光子芯片與外部世界高效、可靠地連接起來,一直是行業(yè)面臨的巨大挑戰(zhàn)。光子引線鍵合打印系統(tǒng)作為一種的光互連封裝技術(shù),正以其靈活性、高精度和自動化潛力,為高速光通信、人工智能計算、傳感等領(lǐng)域開啟全新的可能性。一、技術(shù)瓶頸:傳統(tǒng)光互連的“最后一公里”難題在光子集成芯片(P...
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2025-820
在微納制造領(lǐng)域,多光子聚合(MultiphotonPolymerization,MPP)技術(shù)被譽(yù)為開啟“納米自由制造”時代的鑰匙。它能夠在三維空間中實(shí)現(xiàn)自由度的高分辨率結(jié)構(gòu)構(gòu)建,廣泛應(yīng)用于微光學(xué)、微流控、生物支架、微機(jī)器人等領(lǐng)域。但直到最近,效率始終是制約其工業(yè)化量產(chǎn)與大規(guī)模應(yīng)用的最大瓶頸。如今,我們帶來革命性的技術(shù)變革——NanoBoostPrinter技術(shù)平臺。這是魔技納米自2018年成立以來,在服務(wù)超過300家客戶、沉淀上萬小時打印經(jīng)驗的基礎(chǔ)上,于2024年正式推出的劃...
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2025-819
多光子聚合光刻膠(MultiphotonPolymerizationPhotoresist)是專為飛秒激光三維微納加工設(shè)計的特種光敏材料。多光子聚合光刻膠專為飛秒激光三維微納加工設(shè)計,選擇時需綜合關(guān)鍵性能指標(biāo)以確保精度、效率和應(yīng)用適配性。應(yīng)用場景?:?生物醫(yī)學(xué)?:微流控芯片、仿生支架制造,避免光引發(fā)劑生物毒性;??光子器件?:三維光子晶體、微透鏡陣列加工?;?精密機(jī)械?:元件直寫,支持復(fù)雜懸空結(jié)構(gòu)?。關(guān)鍵性能指標(biāo)選擇標(biāo)準(zhǔn)?:?分辨率?:決定最小特征尺寸(通常需達(dá)100nm級別...
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2025-813
在現(xiàn)代科技飛速發(fā)展的背景下,微米乃至納米尺度的精密制造技術(shù)成為推動集成電路、光子器件、生物醫(yī)療和先進(jìn)材料等領(lǐng)域突破的核心驅(qū)動力。其中,微納激光三維光刻作為一種高精度、高靈活性的增材制造技術(shù),正逐步成為微納結(jié)構(gòu)加工領(lǐng)域的前沿工具。它突破了傳統(tǒng)平面光刻的二維限制,實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜三維微結(jié)構(gòu)的直接寫入,被譽(yù)為“微納世界的3D打印機(jī)”。一、什么是微納激光三維光刻?微納激光三維光刻是一種基于非線性光學(xué)效應(yīng)(如雙光子聚合,Two-PhotonPolymerization,TPP)的超分辨三維加...
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2025-87
微納3D打印是一種結(jié)合了微米級和納米級精度的增材制造技術(shù),能夠在微小尺度上構(gòu)建復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)。以下是關(guān)于它的詳細(xì)介紹:1.技術(shù)原理與工藝分類-核心機(jī)制:該技術(shù)通過計算機(jī)輔助設(shè)計軟件創(chuàng)建數(shù)字化模型后,利用光固化、電子束/激光束照射、電化學(xué)沉積等方式逐層堆積材料成型。其中基于光聚合反應(yīng)的技術(shù)(如微立體光刻、雙光子聚合)占據(jù)主導(dǎo)地位,可精準(zhǔn)控制微觀結(jié)構(gòu)的形成。-主流分支:包括微立體光刻(MSL)、雙光子聚合(TPP)、熔融沉積造型(FDM)、直寫成型(DIW)等。例如,雙光子聚合技...
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2025-79
隨著科技的不斷進(jìn)步,微納制造技術(shù)在半導(dǎo)體、光電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的重要性日益凸顯。三維直寫光刻機(jī)作為一種先進(jìn)的微納制造設(shè)備,憑借其高精度、高靈活性和無需掩模版的特點(diǎn),成為現(xiàn)代微納制造的關(guān)鍵技術(shù)之一。三維直寫光刻機(jī)(3DDirectWriteLithography)是一種非接觸式光刻技術(shù),通過直接在光刻材料上寫入圖案,而無需使用傳統(tǒng)的掩模版。其基本原理包括:1.光源:通常使用高能量激光作為光源,如紫外光(UV)或深紫外光(DUV),這些激光束可以精確地照射到光刻材料上。2.光學(xué)...
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2025-73
無掩膜直寫光刻設(shè)備是一種強(qiáng)大的工具,它通過數(shù)字控制光束直接在基板上形成圖形,擺脫了對物理掩模版的依賴,帶來了靈活性和設(shè)計迭代速度。無掩膜直寫光刻的核心在于“直寫”和“無掩膜”:?直寫:?聚焦的激光束、電子束或其他類型的能量束(如離子束)直接在光刻膠表面移動掃描,按照設(shè)計好的圖形圖案曝光光刻膠。?無掩模:?圖形的圖案信息以數(shù)字文件的形式存儲在計算機(jī)中,并通過精確的空間光調(diào)制器或光束偏轉(zhuǎn)控制系統(tǒng)實(shí)時控制光束的開關(guān)和位置,代替了傳統(tǒng)的光學(xué)掩模版來定義圖形。目前主流的有兩種技術(shù)路線:...
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2025-627
無掩膜光刻(MasklessLithography),也被稱為直寫光刻(Direct-WriteLithography),是一種不同于傳統(tǒng)光刻技術(shù)的先進(jìn)制造工藝。在傳統(tǒng)的光刻過程中,需要使用預(yù)先設(shè)計好的掩膜版來定義圖案,這些掩膜版成本較高且制作時間較長。相比之下,無掩膜光刻直接通過計算機(jī)控制光束(如電子束、離子束或激光)在光敏材料(光刻膠)上繪制所需的微細(xì)圖案,無需使用物理掩膜版。無掩膜光刻的主要特點(diǎn):1、靈活性高:由于不需要物理掩膜,可以在短時間內(nèi)對圖案進(jìn)行修改和調(diào)整,特別...
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